BN xP(1-x)光电薄膜的性能及在紫外探测中的应用
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提高坯体成型压力可以促进纳米级氮化铝烧结致密化,但此影响伴随烧结温度的提高而逐渐微弱。
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电子与表面光学声子相互作用对表面电子态的影响不应被忽略.
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Cubic Boron Nitride Thin Films Prepared by Pulsed ArF Excimer Laser Deposition
ArF准分子激光立方氮化硼薄膜的制备
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本文描述了用冲击合成方法得到的超硬材料纤锌矿型氮化硼(WBN)制作的一种新型抛光片。
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但氮化铝为强共价键结合物,熔点高,自扩散系数小,通常需要热压烧结才能制备出高致密的氮化铝陶瓷。
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TiC、TiN和Ti(C,N)系列含钛化合物具有熔点高、硬度大、化学和热稳定性好等一系列优异的性能,在机械、化工、微电子等领域有着广泛的应用前景。
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系统地研究了流延法制备氮化铝基片过程中影响流延浆料粘度的主要因素.
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研究氮化钛涂层对牙科铸造合金腐蚀性能的影响.
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首先介绍了聚晶立方氯化硼 ( PCBN ) 刀具的优异性能及其应用领域.
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A new kind of boron nitride based shell mouldinvestment casting of titanium alloy was presented.
介绍一种新型钛合金精密铸造型壳——氮化硼基复合型壳的制备工艺.
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本研究为进一步制备h-BN 长纤维及其应用奠定了基础.
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采用热压烧结工艺制备了氧化铝陶瓷为基体、添加固态润滑组元石墨或氮化硼的陶瓷基摩擦材料.
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其畅销产品有: 人造工业金刚石,立方氮化硼、聚晶等超硬材料和磨轮、锯片等金刚石工具.
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The Hogh Temperature Interfacial Friction Behavior Between Nitride Films and Molten Glass
几种氮化物薄膜与熔融玻璃之间的高温界面摩擦行为
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This paper presents the dielectric and mechanical properties of porous silicon nitride ceramics.
研究了预烧结对反应烧结多孔氮化硅陶瓷的介电性能和力学性能的影响.
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Silicon Nitride is a kind of excellent ceramic material used in many areas.
氮化硅是优良的陶瓷材料,应用十分广泛.
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