方法采用反相HPLC荧光法测定GnTⅤ活性时的一些影响因素,包括反应时间、酶蛋白量、pH和去垢剂等。
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系统地研究了流延法制备氮化铝基片过程中影响流延浆料粘度的主要因素.
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Applicability of Enzyme Substrate Technique to Fecal Contamination Testing in Surface Water
酶底物法检测地表水粪便污染的适用性探讨
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通过测试数据和模拟数据揭示了高压器件衬底电流的产生机理.
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利用杏鲍菇菌渣培养Volvaria volvacea的研究已取得显著成果。
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浅地层剖面仪在海洋工程中的应用运用GPY浅地层剖面仪对太湖底质的探测
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结果表明,采用HWP CVD技术能在低衬底温度条件下以较高的沉积速率制备低H含量的SiN薄膜,所沉积的薄膜主要表现为Si&N键合结构。
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文中主要探讨了覆晶封装底胶充填时,锡球、芯片及基板间的流动状况。
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然而,梗死灶周围组织的不均一性和发生心律失常的基质之间的关系还不清楚。
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以隐性亮绿(RBG)为氢供体底物,研究了辣根过氧化物酶-H2O2-RBG显色反应体系的酶催化特性。
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以人工合成的多肽poly(Glu-Ala-Tyr)(6:3:1)为底物测定了人外周血淋巴细胞膜酪氨酸蛋白激酶的活性,并对其性质进行了初步研究。
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本发明涉及一种钛基防积垢镀层及其制备方法,属于表面防护领域.
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作者提出了胶体-原子薄片模型来研究这一现象。过渡金属基底用薄膜线性级加平面波(LAPW)法精确处理,而简单金属覆层则用胶体(jellium)模拟。
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以ABTS为底物的双抗体夹心间接ELISA法的建立及应用
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通过理论分析,找出了能保证BCCD在X光区工作的衬底材料所应满足的吸收曲线。
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Influences of the Substrate Stress on Element Surface Figure in Vacuum Evaporating Deposition
真空蒸镀过程基底应力对元件面形的影响
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试以金属铝粉为基体,以其它无毒无害的无机可溶性盐为粘接剂,研制开发出具有较强耐蚀性和少污染的铝基水系金属微粉涂层工艺。
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The deep trap center of AlN grown on Si substrate is investigated with PL spectra and Raman spectra.
表征陷阱材料的主要物理量是陷阱深度,准确计算出陷阱深度对于研究陷阱材料具有重要的意义。
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Leaf Grow in g and Its In fluc in g Factors of Greenhouse Tomato in Substrate Cultivation
基质栽培条件下温室番茄叶片生长变化及影响因素分析
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详细介绍了移印的承印材料、UV移印工艺的特点、UV固化条件、油墨调整、印刷要素等UV移印油墨的应用知识。
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