1、
从成像原理和频域范围的角度对IIL和OAI进行了理论研究、计算模拟和对比分析。
互联网摘选
2、
3、
研究结果表明，掩模投影成像干涉光刻技术比传统投影光刻能够得到更高的光刻分辨率。
互联网摘选
4、
成像干涉光刻技术（IIL）利用多次曝光分别记录物体空间频率的不同部分，极大地提高了成像质量，其中大角度倾斜照明是对OAI的扩展。
互联网摘选
5、
外科危重病人持续输注异丙酚对IL-1β、IL-6、TNF1-α的影响
互联网摘选
6、
本文以实际生产制造过程中，某芯片采用的一种特殊工艺单元结构集成注入逻辑为研究对象，对该单元器件的功能以及如何实现并优化大规模加工工艺进行探究。
互联网摘选
7、
成像干涉光刻技术（IIL）具有干涉光刻技术（IL）的高分辨力和光学光刻技术（OL）产生任意形状集成电路特征图形的能力。
互联网摘选
