根据介电弹性体摆动驱动器的工作原理,设计了摆动驱动器。
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DAST因具有高的非线性和电光系数、低的介电常数、大的相干长度和快的响应时间等优点而在光整流法产生和探测THz波方面存在巨大应用潜力,目前对其研究较多。
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物理实验研究发现,贵金属的复介电参数会随工作波长变化呈现出较大浮动,这对表面等离子体波传播长度等物理量的计算产生重要影响。
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接地连接电阻的检测、通电操作试验、绝缘电阻的测试、介电试验。
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但是降低了额定SF6气体压力后, 将会影响到灭弧室的开断性能和绝缘性能.
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以2, 4- 二硝基甲苯和2, 6- 二硝基甲苯 ( 分异构体 ) 介电波谱分析的示例, 得到了很好的结果.
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利用时域有限差分(FDTD ) 法,计算了磁介质材料光子晶体 ( PC ) 的能带结构.结果表明,磁性散射也能形成光子禁带.
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Fabrication and characterization of Ta_2O_5 dielectric films by anodic oxidation
阳极氧化法制备Ta2O5绝缘膜及性能研究
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Imperfections in the board's dielectric properties can provide parasitic-leakage-current paths.
电路板介电性能的缺陷会给寄生漏电流提供路径.
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Measuring the Concentration and Viability of Beer Yeast by Dielectric Spectrum
用电容率频谱法测量啤酒酵母的浓度和活性
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提出了一种可变低k(相对介电常数)介质层(variablelowkdielectriclayer,VLkD)SOI高压器件新结构,该结构的埋层由可变k的不同介质组成。
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Breakdown Characteristics of SOI LDMOS High Voltage Devices with Variable Low k Dielectric Layer
可变低k介质层SOI LDMOS高压器件的耐压特性
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综述了低介电常数介质薄膜的制备方法、结构与性能表征、工艺兼容性等领域的最新进展。
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高k栅介质MOSFET的栅电流模型(英文)MOSFET栅电流分布的理论建模
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应用于下一代MOSFET中的高介电栅介质材料的研究
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The Growth and Properties of Tb-doped ZnO Films and High K Dielectric Er_2O_3 Films
Tb掺杂ZnO薄膜和高K栅介质Er2O3薄膜的制备及特性研究
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High k Gate Dielectric ZrO_2 Thin Films on SOI Substrate with Ultra-Thin Top Silicon
超薄顶层硅SOI衬底上高k栅介质ZrO2的性能
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Fabrication of a RF MEMS Switch Using High k Materials as Dielectric Layer
高介电常数介质RF MEMS开关的制作研究
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