1、
The design of a new kind of UV or DUV lithography lenses is described in this paper.
设计了一种新的紫外或深紫外光刻物镜。
互联网摘选
2、
该物镜与国内外现有的紫外或深紫外光刻物镜相比，既能满足大数值孔径的需要，又能充分利用物镜的视场。
互联网摘选
3、
4、
5、
6、
7、
提出了一种面向步进扫描投影光刻机的深紫外准分子激光实时曝光剂量控制算法。
互联网摘选
