采用液相施主掺杂和添加钙等方法优化配方制成PTCR材料。
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Research on Semiconductor Ceramic Materials: Double Donor Doping BaTiO_3
双施主掺杂BaTiO3半导体陶瓷材料的研究
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Effect of Liquid-phase Donor Doping and High Calcium Adding on Performance of PTC Material
液相施主及高钙添加对PTC材料性能的影响
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研究了施主掺杂量,烧成后的冷却条件、氧化温度对SrTiO3半导化的影响。
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常用的施主加入物是Y3+和Nb5+,施主掺入量一般控制在x=0.2%~0.3%为宜。影响施主掺入量的因素有原料纯度、烧结助剂、掺入施主的工艺等。
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Gunn器件中掺杂梯度引起的静止畴的计算机模拟
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但是,随着掺杂浓度梯度的升高与介质片厚的降低,介质的增益水平将由于ASE效应降低。
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Study on the Al/ Ag doping functional gradient thin films deposited by pulsed excimer laser
脉冲激光沉积Al/Ag掺杂功能梯度薄膜
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Fazekas is the second athlete in two days to lose a gold medal for doping.
法泽卡斯是两天之内由于服用兴奋剂而被剥夺金牌的第二名运动员。
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本文在大量实验测量的基础上,对影响NTD硅掺杂精度的因素作了较为详细的研究,给出了一些定量和定性的结果。
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Influence of Silicon Doping on the Structure and the Magnetic Property of γ-Fe_2O_3 Particle
掺硅对γ-Fe2O3微粒的结构和磁性能的影响
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掺入的Si~(4+)阳离子有很强的占据类尖晶石结构中四面体位的趋势,对氧参数及四面体位和八面体位的平均间隙大小也有一定影响。
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在此基础上,采用电路模拟方法仿真分析了影响LAPS特性的因素:硅掺杂浓度、绝缘层厚度以及光强等,仿真结果正确地反映了LAPS的实际特性。
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经过Ni掺杂、Co掺杂以及Ni/Co共掺杂后,产物的形貌、晶相变化不明显,但介电损耗强度增大,主要极化机理归因于离子极化。
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被发现使用兴奋剂最多的是俄罗斯/前苏联和美国的奥运会奖牌获得者,分别有12块和11块奖牌被剥夺。
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