1、
2、
3、
模型和实验的结果表明：通过对等离子体刻蚀参数的优化可以产生一个能减少底部防反光层的围墙式缺陷的刻蚀剖面。
互联网
4、
使用它没什么特别的，甚至米格尔-巴塞罗，托马斯-舒特，理查德-迪肯和朱塞佩-庞安的作品也一样，尽管他们作品非凡。
互联网
5、
At last we can compare with yield for with BARC and without BARC process.
最终通过yield的比较说明抗反射层在现代光刻工艺中的作用.
互联网摘选
