Electric and infrared absorption properties of LNO thin films prepared by RF-magnetron sputtering
LNO薄膜的射频磁控溅射制备及其电学性能与红外吸收性能
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Study of DLC films residual stress by unbalanced magnetron sputtering technology
非平衡磁控溅射DLC薄膜应力研究
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应用低能离子束辅助磁控溅射(IBAMS)沉积铬-铜-氮薄膜,研究了铜含量和轰击能量对薄膜结构、硬度和断裂韧度的影响。
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在Corning1737玻璃衬底上射频磁控溅射沉积了铝掺杂ZnO薄膜(ZnO∶Al).薄膜沉积在衬底温度250℃、溅射功率100W和纯氩气氛中进行。
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The approximate analysis of magnetron V-I characteristics and Its Applications
磁控管Ⅴ&Ⅰ特性的近似分析及其应用
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预计利用磁控溅射超细合金材料涂层技术的新一代轴瓦会有十分广阔的应用前景。
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They paid special attention to raising the quality of magnetron and multicavity klystron.
他们特别注意提高磁控管和多腔速调管的质量.
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喷墨打印机的墨水务必有不足的暗地弛力,以避免喷不入时墨水溅射不入去.
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Metal aluminum films were deposited on AAO templates by radio frequency magnetron sputtering.
用射频磁控溅射法在阳极氧化铝模板表面制备了金属铝膜.
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