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A method for the determination of impurities in high purity osmium powder by ICP _ MS was developed.
利用ICP_MS技术建立了锇粉中痕量杂质元素的分析方法.
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3、
本文将主要叙述等离子溅射镀膜的原理与方法,并且简单介绍磁控管溅射仪和锇等离子镀膜仪等.
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4、
Examples of fixatives are formaldehyde, osmium tetroxide, ethanol, and acetic acid.
像甲醛 、 锇酸 、 酒精及乙酸等都是常用的固定剂.
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