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1、
2、
Dopant distribution in LDD region is getting closer to substrate surface.
LDD区域中的杂质分布越来越靠近衬底表面.
互联网摘选
3、
和化学气相淀积工艺相反, 虽然在操作中对于固体砷还是必须非常小心掌握,但是,分子束外延不需要庞大的安定保险装置.
网络文摘精选
4、
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- dopant redistribution掺杂再分布;
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